一、光刻胶

　　光刻胶是进行微细图形加工，制造微电子器件和印制电路板的一种关键化学品，按反应机理及显影原理，可分为正型光刻胶和负型光刻胶。按曝光光源可分为可见光刻胶和紫外光刻胶和辐射光刻胶。

二、电子特种气体

电子特种气体主要用于电子工业加工的保护、掺杂、蚀刻、离子注入、气相沉积等工序，包括纯气和纯气混和气。

三、电子封装材料

　　电子封装材料主要用于承载电子元器件及其相互联线，起机械支持、密封环境保护、信号传递、散热和屏蔽等作用的基体材料。

四、高纯试剂

高纯试剂，又称工艺化学品或湿化学品，是大规模和超大规模集成电路制作过程中的关键性基础化工材料，主要用于生产过程中的清洗、光刻、蚀刻和去胶等，其纯度和洁净度对于集成电路的成品率、电性能及可靠性均有十分重要的影响。

五、平板显示(FPD)专用化学品

　　平板显示涵盖液晶显示(TFT-LCD)、等离子体显示(PDP)、有机发光显示(OLED)、电子纸显示(E-Paper)等显示技术。涉及的电子化学品主要包括玻璃基板、彩色滤光片、偏光片、掩膜版、荧光粉等。

六、印制电路板材料及配套化学品

　　印制电路板材料及配套化学品包括电路基材、树脂、油墨、抗蚀工艺用化学品、腐蚀剂及镀敷化学品等。

七、其他电子化学品

　　电子工业中涉及的电子化学品材料除上述大类外，还包括混成电路用化学品、电容器用材料、电器涂料、导电聚合物等其他电子电气用化学品。

电子级氢氟酸介绍

      氢氟酸，英文名 Hydrofluoric Acid,分子式HF,为无色透明液体 ,相对密度1.15～1 .18,沸点 112 . 2 ℃,在空气中发烟 ,有刺激性气味 ,剧毒。能与一般金属、 金属氧化物以及氢氧化物发生反应 ,生成各种盐类。腐蚀性极强 ,能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。易溶于水、醇 ,难溶于其他有机溶剂。

      世界高端半导体市场长期以来被日本占领，经过经10年的发展，中国涌现出以安集、新阳、多氟多、江峰等企业为代表的高端电子化学品企业，根据用途的不同，电子级氢氟酸被分为EL、UP、UPS、UPSS。其中UPSS级别是目前较先进的级别，国内目前仅有多氟多生产和大规模应用。

       高纯电子化学品又称湿电子化学品，品种类繁多，比如氢氟酸、光刻胶、氟化聚酰胺等，应用广泛，是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种电子化工材料。超净高纯试剂一般要求尘埃颗粒粒径控制在 0.5?m 以下，杂质含量低于ppm 级（10-6 为 ppm，10-9 为 ppb，是 10-12为 ppt）的化学试剂，是化学试剂中对颗粒粒径控制、杂质含量要求高的试剂。目前广泛运用于半导体、太阳能硅片、LED 和平板显示等电子元器件的清洗和蚀刻等工艺环节。在半导体制造过程中，电子级氢氟酸主要用于晶圆表面清洗、芯片加工过程的清洗和腐蚀等。资料显示，在半导体制程中，有50多个环节需要使用高纯度电子氟化氢，足见其重要性。不过，相对于其他领域的应用来说，半导体制造对于电子级氢氟酸的品质和纯度要求也更高。

       目前我公司供应的电子级化学品有：电子级硫酸、电子级硝酸、电子级盐酸、电子级氢氟酸、电子级过氧化氢，欢迎各届人士来电咨询。